Os investigadores depositam películas do metal sobre as moléculas do ADN alinhadas em uma carcaça. As moléculas do ADN actuam essencialmente como nanostencils para definir testes padrões de sub-10-nm-sized na carcaça. Os investigadores chamam este processo do “nanolithography da sombra ADN” porque a película do metal é depositada em um ângulo e o molde da sombra pelas moléculas do ADN define as dimensões das caraterísticas na carcaça.
Gravura a água-forte anisotrópica das superfícies modeladas usando os plasmas reativos do gás, uma ferramenta de uso geral da fabricação na indústria do semicondutor, rende trincheiras da elevado-aspeto-relação na carcaça. As trincheiras podem ser seladas na parte superior para dar forma a nanochannels incluidos contínuos. Alternativamente, as trincheiras podem quimicamente functionalized e usado como moldes para o depósito de nanowires do metal tais como aqueles niquelar, de cobre, ou de prata. As trincheiras e os nanowires templated têm as dimensões laterais menos de 30 nanômetro e podem ser costurados para ser menos de 10 nanômetro. As dimensões exatas das trincheiras podem ser variadas ajustando o ângulo do depósito e a espessura da película depositada.
Os investigadores acreditam que deve ser possível transferir testes padrões complexos em carcaças usando moléculas superfície-alinhadas do ADN. “Um aspeto notável desta tecnologia é que utiliza a habilidade de modelação do ADN sem exigir o ácido nucleico permanecer na construção final”, disse Woolley, adicionando que os nanostructures fabricados pelo nanolithography da sombra do ADN podem encontrar o uso como as canaletas nanofluidic e sensores químicos.
Autor: Adam T. Woolley, universidade de Brigham Young (EUA), http://people.chem.byu.edu/awoolley
Título: Do “sombra Nanolithography ADN”
2007 pequeno, 3, no. 9, 1534-1538, doi: 10.1002/smll.200700240
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Fonte: Adam T. Woolley
John Wiley & Filhos, Inc.
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